AZ®111 XFS光刻胶

厚度范围和曝光

膜厚：  4000 rpm时1 µm 
紫外线敏感度：  i，h-line（310-420nm）
包装： 250 ml，500 ml，1.000 ml，2500 ml和5升

一般信息

AZ ®111 XFS光刻胶对所有的表面均有着优异的粘附性能。该光刻胶的起源可追溯到1964年的AZ ®111，它是最早用于通用接触式印刷用途的商业正性光刻胶之一。同时AZ®111XFS（AZ® 111 S的更安全的版本），已经发展到可满足现今半导体制造业的要求，现今依然被广泛使用，具有杰出的湿法蚀刻能力和附着力。

显影液

合适的显影溶剂是AZ®303显影液，可采用1：3至1：4的稀释比例来使用。