光刻胶

AZ 111 XFS正性光刻胶

AZ 111 XFS光刻胶

AZ®111 XFS光刻胶

厚度范围和曝光

膜厚:  4000 rpm时1 µm 
紫外线敏感度:  i,h-line(310-420nm)
包装: 250 ml,500 ml,1.000 ml,2500 ml和5升

一般信息

AZ ®111 XFS光刻胶对所有的表面均有着优异的粘附性能。该光刻胶的起源可追溯到1964年的AZ ®111,它是最早用于通用接触式印刷用途的商业正性光刻胶之一。同时AZ®111XFS(AZ® 111 S的更安全的版本,已经发展到可满足现今半导体制造业的要求,现今依然被广泛使用,具有杰出的湿法蚀刻能力和附着力。

显影液

合适的显影溶剂是AZ®303显影液,可采用1:3至1:4的稀释比例来使用。