AZ 10XT正型光刻胶

AZ 10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶。超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺。AZ 10XT匀胶厚度约5~16微米

AZ 10XT光刻胶产品特点：

1) 高分辨率，高纵宽比

2) 高附着性，对电镀工艺高耐受性

3) 多种粘度可供选择

AZ 10XT光刻胶参考工艺：

前烘 ：100℃ 90秒以上 (DHP)

曝光 ：I线步进式曝光机/接触式曝光系统

显影 ：AZ400K显影液(1:4) 23℃ 60~300秒 Dip ：

AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒

清洗 ：去离子水

后烘 ：120℃ 60秒以上

剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

AZ 10XT光刻胶型号：AZ 10XT(220cP)、10XT(520cP)