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有机合成光化学的技术创新五：流动光化学 -光裂解和光脱保护（Photocleavage and Photodeprotection）
保护基团在合成有机化学领域，特别是在复杂生物活性分子的全合成中具有不可估量的重要性。 理想的保护基团应具有两个特性：(1) 保护敏感官能团在随后的母体分子修饰过程中免受不希望的反应， (2) 以高产率和选择性安装和去除它。 光裂解是官能团去保护的理想策略，因为它通常与更传统的热或酸碱型去保护策略正交。
2022-03-01
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保护基团在有机合成中的应用
在一个多官能团化合物上要选择性地在某一个反应点上进行化学反应时，另外的官能团总是会要被临时屏蔽起来。许多保护基团也就是为此目的而发展起来并仍在发展着的。一个保护基团要满足一系列要求。它必须有选择地反应后高产率地生成--个被保护的底物以适于参加接下来所要进行的反应。保护基团必须高产率地通过与易于得到的无害试剂反应被选择性移去,这些试剂也不会进攻再生的官能团。
2022-02-28