光刻机

URE-2000S/25型单、双面紫外光刻机

URE-2000S/25型单、双面紫外光刻机

技术特点: 
     该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术,单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计,掩模—样片对准过程直观,套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式,操作方便。 
主要技术指标: 
★ 曝光面积:150mm×150mm; 
★ 分辨力:1.5µm(胶厚2 µm的正胶); 
★ 对准精度:±2.5µm(双面),±1µm(单面); 
★ 掩模尺寸:3 inch、4 inch、5 inch、7 inch; 
★ 样片尺寸:直径ф30mm-- ф150mm、 
      厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm); 
★ 照明均匀性: ±4%(ф100mm范围);±7%(ф150mm范围) 
★ 掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm;  Y: ±5mm; θ:±6°; 
★ 汞灯功率:350W(直流); 
★ 曝光方式:定时(倒计时方式)