PDC-MG 等离子清洗机

 PDC-MG 型等离子清洗（处理）机是一种小型的非破坏性表面处理设备，它是采用能 量转换技术，在一定真空负压的状态下以电能将气体转化为活性极高的等离子体，等离子体 能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清 洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一 定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免 样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行 消毒和杀菌。等离子清洗技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科 学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。

PDC-MG 等离子清洗机技术参数：

1.整机规格：500×300×300（长×宽×高）mm

2.整机重量：35 Kg

3.清洗舱规格：Φ165×L210 mm (耐热玻璃)

4.清洗舱有效容积：4.5 L

5.输入电源：220 V／50 Hz

6.整机输入功率：400 W

7.射频输出：0～150 W（连续可调）

8.射频频率：13.56 MHz

9.数字式定时器范围：0～99.99 min

10.极限真空度：60 Pa

11.二路浮子流量计：0.2~1.5L/min量程，方便二种气体按比例混合

12.观察窗：观察清洗仓内辉光状态

13.常用工作气体：空气、氩气、氮气或混合气体

14.VRD-8型单相真空泵

PDC-MG 等离子清洗机配置清单