Harrick Plasma是国际一流的等离子清洗器生产商，在业内已经有三十多年的经验。他所生产的小型等离子清洗器结构紧凑、质量可靠、价格合理；广泛地被大中院校、科研机构、企业研发机构和实验室采用。其产品主要应用在材料科学、高分子科学、生物医药材料学、微流体研究、微电子机械系统研究、光学、显微术、牙科医疗等领域中的污染物清除、表面活化、粘合前处理、表面化学改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。
Harrick Plasma 等离子清洗机简介：
等离子表面处理机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。
等离子表面处理机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
Harrick Plasma 等离子清洗机应用：
1. 高分子材料表面修饰。
2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
4. 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
5. 清洗半导体元件、印刷线路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉积凝胶的基片。
8. 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
10. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
H a r r i c k 基 本 型 参 数
◆ 主要特征：
台式设计，结构紧凑精致
低、中、高三档可调节功率，最大可为18W
设备辐射小，安全环保
◆ 外形尺寸：
8.5"H x 10"W x 8"D（215mm x 254mm x 203mm）
◆ 重量：6.0kg
◆ 输入电源：220 V／50Hz
◆ 输入功率：100 W
◆ 功率档：
低档680V DC、10mA DC、6.8W
中档700V DC、15mA DC、10.5W
高档720V DC、25mA DC、18W
◆ 常用工作气体：
空气、氩气、氮气或混合气体等
◆ 基本配置：
直径3英寸，长6.5英寸的耐热玻璃舱体。
可拆卸舱盖。
最大为18W的RF线圈。
1/8英寸NPT针阀
1/8英寸NPT三通阀
◆ 选配件：
石英等离子清洗舱
石英托盘（用于放置样品）
气体计量混合器Plasma FloTM
◆ 周边设备：
基本型专用真空泵（PDC-VPE-2）
H a r r i c k 基 本 型 可 选 配 置
◆ 选件一：气体计量混合器PlasmaFloTM
功能及配置简介：
1、Harrick PlasmaFloTM气体计量混合器是一台可任选的以满
足客户的不同需求的备件。主要应用于样品的表面改性。
2、在等离子清洗过程中气体流混合和压力监视。
3、为向舱内注入两种气体提供了可能。
4、含两个标准的气体流量计(1.0 SCFH & 2.0 SCFH)
5、温差电偶真空度表测量舱内压力
6、适用气体：空气、氮气、氩气或混合气体。
7、尺寸：8 1/2"H x 10"W x 8"D
8、订货号：PDC-FMG-2
◆ 选件二：真空泵
Harrick等离子清洗需要使用最小1.4 m3/hr (0.83 cfm)，压力为
200 mTorr (0.27 mbar)的真空泵。Harrick 提供两种可选型号：
1、PDC-VP-2 (220V)
抽真空速度(50/60 Hz): 3.2/3.6 m3/hr
极限压力(气镇关)：1.5 mTorr
极限压力(气镇开)：23 mTorr
电机功率：(50/60 Hz): 250/300 W
重量: 34 lbs
尺寸: 9"H x 15"W x 5"D
2、PDC-VPE-2 (220V)
抽真空速度(50/60 Hz): 5.1 m3/hr
极限压力(气镇关): 7.5 mTorr
极限压力(气镇开: 150 mTorr
电机功率(50/60 Hz): 373 W
重量: 27 lbs
尺寸: 9 3/4"H x 14"W x 5 1/2 D"
◆ 选件三：石英等离子清洗舱及托盘