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    紫外正性光刻胶

    • 型号
    • 品牌Futurrex系列、Micro Resist
    • 类型
    • 匀胶厚度

    紫外正性光刻胶包括:Futurrex系列、Micro Resist 系列

    1. 详细信息

    紫外正性光刻胶

    1

     

    品牌

    产地

    型号

    厚度

    耐热温度

    应用

    Futurrex

    美国

    PR1-500A

    0.4μm~0.9μm

    耐热温度=110 ℃

     






    湿刻、反应离子束刻蚀、离子植入、电镀

    PR1-1000A

    0.7μm~2.0μm

    PR1-1500A

    1.3μm~3.0μm

    PR1-2000A

    1.7μm~4.0μm

    PR1-4000A

    3.7μm~10.0μm

    PR1-12000A

    10.0μm~25.0μm

    Micro Resist

    德国

    ma-P 1200系列

    0.5~50μm胶厚

     

    非常适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;
    优异的电镀性能(酸和碱性镀液中极高的稳定性)

    光刻胶图案良好的热稳定性;碱性水溶液下显影;
    宽带、g或i线曝光