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    电子束及深紫外光刻胶

    • 型号
    • 品牌
    • 类型
    • 匀胶厚度

    电子束及深紫外光刻胶

    1. 详细信息

    电子束及深紫外光刻胶

    1

     

    品牌

    产地

    型号

    曝光

    特点

    Micro Resist

    德国

    ma-N 2400系列

    电子束
    和深紫
    外曝光

      电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;胶

    图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-50 nm以下;碱性水溶液下显影;

     

    mr-EBL 6000

    电子束曝光

        电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;光       胶图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-80 nm以下;碱性水溶液下显;