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    AZ P1350光刻胶

    • 型号
    • 品牌
    • 类型
    • 匀胶厚度

    AZ P1350光刻胶应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶。AZ P1350光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于CD,LD,VCD 等光盘的制造。

    1. 详细信息

    AZ P1350光刻胶应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶。AZ P1350光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于CD,LD,VCD 等光盘的制造。

    AZ P1350(4.8mPa)光刻胶特征:

    1) 在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性 

    2) 在铬称底上拥有高附着性 

    3) 使用安全溶剂PGMEA

    AZ P1350(4.8mPa)光刻胶参考工艺条件:

    前烘 110℃ 90秒 (DHP) 

    曝光 G线步进式曝光机/接触式曝光系统 

    显影 AZ显影液(1:1) 23℃ 60秒 

    清洗 :去离子水30秒 

    后烘 120℃ 120秒以上 

    剥离 AZ剥离液及/或氧等离子体灰化