光刻胶

AZ P1350光刻胶

AZ P1350光刻胶应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶。AZ P1350光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于CD,LD,VCD 等光盘的制造。

AZ P1350光刻胶应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶。AZ P1350光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于CD,LD,VCD 等光盘的制造。

AZ P1350(4.8mPa)光刻胶特征:

1) 在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性 

2) 在铬称底上拥有高附着性 

3) 使用安全溶剂PGMEA

AZ P1350(4.8mPa)光刻胶参考工艺条件:

前烘 :110℃ 90秒 (DHP) 

曝光 :G线步进式曝光机/接触式曝光系统 

显影 :AZ显影液(1:1) 23℃ 60秒 

清洗 :去离子水30秒 

后烘 :120℃ 120秒以上 

剥离 :AZ剥离液及/或氧等离子体灰化