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迈库弗洛微流控技术(常州)有限公司

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    特殊工艺光刻胶

    • 型号
    • 品牌Allresist
    • 类型
    • 匀胶厚度

    光刻胶包括:导电胶,双层Lift-Off工艺底层胶,耐酸碱保护胶,耐HF酸刻蚀光刻胶,耐碱刻蚀光刻胶,聚酰亚胺光刻胶,深紫外曝光胶,全息曝光用胶,有机溶剂显影光刻胶,PPA直写胶

    1. 详细信息

    光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS),光电子器件光子器(Optoelectronics/Photonics),平板显示器(LED,LCD,OLED),太阳能光伏(Solar PV)等领域。

    特殊工艺用光刻胶(Special manufacture/experimental sample)

    电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,全息光刻用胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶)等特殊工艺用胶。

    型号

    特性

    导电胶
    AR-PC 5090
    AR-PC 5091

    电子束曝光用导电层,不含光敏物质。
    在绝缘衬底上做电子束曝光时,为了避免电荷累积,大家通常会选择涂一层导电胶,来消除电荷累积。在正常的曝光结束后,导电胶会溶于水中,非常容易去除,不会影响正常的电子束曝光工艺。

    AR-BR 5400

    双层Lift-Off工艺底层胶
    可以得到稳定的Lift-off结构,利于金属的沉积。在制作双层工艺时,需要和正胶AR-P 3500或AR-P 3500T配合使用。从270nm到红外区,有良好的光学透明性,热稳定性好。

    AR-PC 500

    耐酸碱保护胶
    在酸碱中有很好的耐刻蚀性能,不含光敏物质。尤其在碱性环境(40% KOH)中非常稳定。一般涂于衬底背面,防止刻蚀工艺中的化学物质损害其背面结构。503颜色为黑色,较504耐刻蚀性能稍弱。

    SX AR-PC 5000/40

    耐酸碱保护胶
    在酸碱中有很好的耐刻蚀性能,不含光敏物质。在40%的KOH和50%的HF中,具有很好的保护作用的,耐刻蚀时间可以长达数小时。另外,还可以和正胶配合使用,通过双层工艺来制作图形。

    AR-P 5910

    耐HF酸刻蚀光刻胶,正胶
    对基底有很好的粘附性,一般用于低浓度的HF,在5% 以下的HF 酸中有很好的保护作用。

    X AR-P 5900/4

    耐碱刻蚀光刻胶,正胶
    主要用于耐碱刻蚀以及保护层。光刻胶可以在2n(2mol/L)的NaOH中可以稳定很长时间。

    SX AR-PC 5000/80

    聚酰亚胺光刻胶,不含光敏物质
    热稳定性光刻胶,在400℃时仍然很稳定。不含光敏物质,但是可以和正胶配合使用,通过双层工艺来制作图形。可以用于制作传感器材料、保护层及绝缘层。

    SX AR-PC 5000/82

    聚酰亚胺光刻胶,紫外正胶
    热稳定性光刻胶,正胶,在400℃时仍然很稳定。具有良好的耐等离子刻蚀性能,可用于离子注入工艺。

    X AR-P 5800/7

    深紫外曝光胶,正胶
    深紫外曝光(248 - 265 nm 和300 - 450 nm),在这个波长范围内,光刻胶的透射率高。耐刻蚀性能好。适合接触曝光,曝光过程中,产生的氮气少,可以提高图形质量。

    SX AR-P 3500/6

    全息曝光用胶,正胶
    在长波段具有很好的灵敏度,敏感波段为(308 – 500nm),主要用于全息曝光工艺。

    SX AR-N 4810/1

    有机溶剂显影光刻胶(用于无水环境),负胶
    基于PMMA的负胶,曝光波长230 – 440nm。主要用于工艺中衬底材料对水敏感,需要无水环境操作的情况。采用有机溶剂显影,避免了水或潮气对衬底材料的破坏。

    SX AR-P 8100.04/1 

    PPA直写胶
    适用于热探针直写及电子束曝光,高分辨率(10nm),无需显影过程,涂胶厚度:100nm@4000rpm ,200nm@1000rpm 。不含光敏物质,无需黄光室。

     

    配套试剂
    Process chemicals)

     

    类型

    型号

    特性

    显影液

    AR 300-26, -35

    紫外光刻胶用 显影液

    AR 300-44,-46,-47, -475

    紫外/电子束光刻胶用 显影液

    AR 600-50,-51,-55,-56

    PMMA胶用 显影液

    定影液

    AR 600-60,-61

    电子束光刻胶用 定影液

    除胶剂

    AR 300-70, -72, -73,600-70

    紫外/电子束光刻胶用 除胶剂

    稀释剂

    AR 600-01…09

    PMMA胶 稀释剂

    AR 300-12

    紫外/电子束光刻胶用 稀释剂

    增附剂

    AR 300-80, HMDS

    紫外/电子束光刻胶用 增附剂