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    PMGI & LOR Lift-off光刻胶LOR 3A LOR 5A

    • 型号MicroChem PMGI & LOR 负性光刻胶
    • 品牌MicroChem
    • 类型负胶,Lift-off光刻胶
    • 匀胶厚度

    PMGI & LOR负光刻胶使能高产,广泛应用于在处理多种数据存储和无线芯片到MEMS的金属剥离。PMGI & LOR负光刻胶作为双叠层光刻胶,PMGI & LOR在超出单层防腐可以延长限制剥离处理。这包括非常高的分辨率的金属化(<0.25µM),以及非常厚(>4µm)金属化...

    1. 详细信息

    PMGI&LOR Lift-off光刻胶

    PMGI&LOR光刻胶可在数据存储、无线IC和MEMS等各种应用中实现高产量,金属剥离工艺。 在双层光刻胶层使用时,PMGI和LOR将工艺范围扩展到单层光刻胶层所能达到的范围之外,包括高分辨率金属化(< 0.25µm),以及很厚(> 4µm)金属化。这些独特的性能适用于多种材料,可满足客户的各种需要。

    材料用途:金属电梯加工,桥制造,释放层

    PMGI&LOR Lift-off光刻胶材料属性

    覆盖在成像抗蚀剂不会混杂

    TMAH双叠层一步发展,或KOH开发

    高热稳定性:Tg ~190 C

    快速清除和常规抗剥离干净

    0.25µm微米双层抗蚀成像

    产量高,可用于很厚(>3µm)金属剥离处理

    MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻胶