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    AZ nLof2070 光刻胶

    • 型号AZ nLOF2000系列 负性光刻胶
    • 品牌AZ
    • 类型负胶
    • 匀胶厚度5~12微米

    AZ nLof2070 负性光刻胶

    1. 详细信息

    非常高的热稳定性:几乎没有交联的抗蚀剂图案的圆形,温度高达250°C或更高。

    高的化学稳定性:工艺参数依赖,AZ ® nLOF 2000是针对多种有机溶剂以及强碱性介质中稳定(但是,不是针对KOH的Si-蚀刻稳定!)。

    对电子束的灵敏度的的AZ ® nLOF 2000抗蚀剂允许fastUV和高分辨率电子束光刻的组合。

    AZ ® nLOF 2020:薄膜厚度为2μm@ 3000rpm下

    AZ ® nLOF 2035:薄膜厚度为3.5μm@ 3000rpm下

    AZ ® nLOF 2070:薄膜厚度为7μm@ 3000rpm下(AZnlf2070 AZ400K 1:3兑水

    UV-灵敏度: i线(365nm)下,不对g或h线敏感