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    AZ辅助化学品系列

    • 型号
    • 品牌
    • 类型
    • 匀胶厚度

    AZ辅助化学品系列

    1. 详细信息

    AZ辅助化学品系列

    剥离液

    1) 正型光刻胶剥离液(胺型)-AZ Remover 100AZ Remover 200

    AZ剥离液特征:

    * 含有水溶性有机溶剂,针对正型光刻胶优化的剥离液. 可以使用原液或者按照1:1纯水稀释,但是如果对于会 腐蚀的称底,只能使用原液

    * 对于后烘之后或者离子注入工艺中,推荐使用AZ Remover 200,高温剥离

    AZ剥离液特性

    2) 正型光刻胶剥离液(溶剂型)

    AZ Remover 700针对会腐蚀的称底优化的剥离液可以在常温下使用,以减少高温挥发损失

    AZ 400T Stripper(也可用于干膜和负胶)可去除plasma蚀刻后的有机残留减少金属离子污染去胶效率高-->2000 wafers/gallon对铝铜衬底不会腐蚀

    3) Side-wall聚合体剥离液

    AZ Remover 810S适用于剥离在后烘,离子注入和干法蚀刻之后的残留含有抗腐蚀剂以减轻对于称底的腐蚀性可适用于常温、短时间剥离工艺