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    AZ P4620 光刻胶

    • 型号AZ P4000系列正性光刻胶
    • 品牌AZ
    • 类型紫外光刻胶、正胶
    • 匀胶厚度AZP4620厚度范围约6 - 20μm

    AZP4620超厚膜,高对比度,高感光度G线标准正型光刻胶,适用于半导体制造及GMR磁头制造。特征:1) 高对比度,高感光度2) 高附着性,对电镀工艺高耐受性3) 多种粘度可供选择参考工艺条件:前烘 :100℃ 90秒以上 (DHP)曝光 :G线步进式曝光机/接触式曝光系统显影 :AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒清洗 :去离子水后烘 :120℃ 60秒以上剥离 :AZ剥离液及/或氧等离

    1. 详细信息

    AZP4620超厚膜,高对比度,高感光度G线标准正型光刻胶,适用于半导体制造及GMR磁头制造。

    特征:

    1) 高对比度,高感光度

    2) 高附着性,对电镀工艺高耐受性

    3) 多种粘度可供选择

    参考工艺条件:

    前烘 100℃ 90秒以上 (DHP)

    曝光 G线步进式曝光机/接触式曝光系统

    显影 AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒

    清洗 :去离子水

    后烘 120℃ 60秒以上

    剥离 AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

    产品型号:

    型号

    AZ P4210

    AZ P4330

    AZ P4400

    AZ P4620

    AZ P4903

    粘性

    49mPa

    115mPa

    160mPa

    400mPa

    1550mPa

     

     

    AZP4000光刻胶匀胶曲线: