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    AZ 10XT正型光刻胶

    • 型号AZ 10XT
    • 品牌AZ
    • 类型正型光刻胶
    • 匀胶厚度5~16微米

    AZ 10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶。超厚膜,高分辨率,高纵宽比I线正型光刻胶,适用于微电镀工艺。AZ 10XT匀胶厚度约5~16微米

    1. 详细信息

    AZ 10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶超厚膜,高分辨率,高纵宽比I线正型光刻胶,适用于微电镀工艺AZ 10XT匀胶厚度约5~16微米

    AZ 10XT光刻胶产品特点:

    1) 高分辨率,高纵宽比

    2) 高附着性,对电镀工艺高耐受性

    3) 多种粘度可供选择

    AZ 10XT光刻胶参考工艺:

    前烘 100℃ 90秒以上 (DHP)

    曝光 I线步进式曝光机/接触式曝光系统

    显影 AZ400K显影液(1:4) 23℃ 60~300秒 Dip :

    AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒

    清洗 :去离子水

    后烘 120℃ 60秒以上

    剥离 AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

    AZ 10XT光刻胶型号:AZ 10XT(220cP)、10XT(520cP)

    AZ 10XT正型光刻胶匀胶范围