光刻胶

AZ 10XT正型光刻胶

AZ 10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶。超厚膜,高分辨率,高纵宽比I线正型光刻胶,适用于微电镀工艺。AZ 10XT匀胶厚度约5~16微米

AZ 10XT光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶超厚膜,高分辨率,高纵宽比I线正型光刻胶,适用于微电镀工艺AZ 10XT匀胶厚度约5~16微米

AZ 10XT光刻胶产品特点:

1) 高分辨率,高纵宽比

2) 高附着性,对电镀工艺高耐受性

3) 多种粘度可供选择

AZ 10XT光刻胶参考工艺:

前烘 :100℃ 90秒以上 (DHP)

曝光 :I线步进式曝光机/接触式曝光系统

显影 :AZ400K显影液(1:4) 23℃ 60~300秒 Dip :

AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒

清洗 :去离子水

后烘 :120℃ 60秒以上

剥离 :AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

AZ 10XT光刻胶型号:AZ 10XT(220cP)、10XT(520cP)