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    PTL-VM500 等离子清洗机

    • 型号PTL-VM500 等离子清洗机
    • 品牌等离子体表面处理机

    PTL-VM500 真空等离子表面处理系统腔体尺寸5L,利用真空泵将工作室进行抽真空达到 30-40pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态)

    1. 详细信息

    一、 设备名称: 真空等离子表面处理系统

    二、 设备型号: PTL-VM50

    三、 设备简介:

    低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组 成。工作基本原理是在真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽 真空达到 30-40pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态),其显 著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光,材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

    四、 技术参数

    1、设备外形尺寸: 450mm*400mm*240mm

    2、真空仓体尺寸: Φ151×300(L)mm (5L)

    3、仓体结构: 不锈钢腔体,内置容性耦合电极,无污染,内置石英托盘。

    4、等离子发生器: 射频,功率 0-300W 调节,全电路保护,连续长时间工作(风冷)。

    5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制,采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制 模式,真彩台达触摸屏,西门子可编程控制器(PLC),美国产真空压力传感系统,可在线设定、修改、 监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数,并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式 下设置各项工艺参数,即可一键启动,连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

    五、 工艺流程:

    1、处理工艺流程 装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

    2、工艺控制:

    2.1 处理时间控制: 1 秒~120 分钟连续可调。

    2.2 等离子放电压力:30~50Pa。

    2.3 功率设定范围:0~300W 连续可调。

    2.4 流量设定范围: 气体 1(0~300ml/min) 气体 2(0~500ml/min)。

    3、 PLC 软件功能(操控界面)

    3.1 主画面:实时监视并显示运行状态及数据,等离子电源功率、气体流量、阀门开关、真空压力、 运行时间等。

    3.2 参数设置:可设定、修改工艺参数及步骤。

    3.3 工作状态:可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态。

    3.4 故障报警:多种故障检测、报警及互锁保护 。