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    Cee®300MXD兆声清洗显影设备

    • 型号 Cee®300MXD兆声清洗显影设备
    • 品牌

    兆声波清洗不仅保存了超声波清洗的优点,而且克服了它的不足。兆声波清洗的机理是由高频(1000kHz)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时,由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,最大瞬时速度可达到30cm/s。因此,形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。

    1. 详细信息

    兆声清洗显影设备:

           兆声波清洗不仅保存了超声波清洗的优点,而且克服了它的不足。兆声波清洗的机理是由高频(1000kHz)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时,由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,最大瞬时速度可达到30cm/s。因此,形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。

          兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小至0.15μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。目前兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法

    Cee®300MXD 兆声清洗显影设备, 主要应用于:

     

     高深宽比结构图形显影,LIGA, 准LIGA工艺,MEMS及Advanced Lithography

         (Krf/Arf 248nm/139nm)

     SU8厚胶显影

     显影后清洗

     CMP工艺后清洗

     光刻胶清洗

     去除光刻胶

     金属剥离(可加热处理)

     金属刻蚀(可加热处理)